Modificação de Superfícies de Materiais e Produção de Nanopartículas Decoradas em Óxido de Grafeno

Autor(es): Nicolle Scariot
Orientador: Cesar Aguzzoli
Quantidade de visulizações: 731

A técnica de deposição de filmes finos em superfícies via magnetron sputtering é amplamente utilizada, tanto nos campos da indústria, quanto em aplicações do estado da arte. O processo é realizado em um ambiente com vácuo controlado e envolve a geração de um plasma por descarga luminescente (ou somente plasma), que, confinado, é responsável por volatizar um material sólido e depositá-lo em um substrato. Dentre suas vantagens, está o melhoramento em propriedades mecânicas, tribológicas, ópticas e de biocompatibilidade, além de ser uma técnica ambientalmente amigável. A metodologia também se torna interessante por poder ser utilizada não apenas na confecção de filmes finos homogêneos, mas também na síntese de nanopartículas e aglomerados de um material alvo. Atualmente, com o avanço de diversos campos da nanotecnologia, o uso da deposição via magnetron sputtering encontra terreno na síntese de nanocompósitos e no ajuste das características de materiais recentemente desenvolvidos e avaliados, como o grafeno e óxido de grafeno (GO) – sendo este uma rota viável na produção em larga escala do grafeno. Neste contexto, foi realizada uma busca bibliográfica acerca do uso da tecnologia de deposição por magnetron sputtering, buscando explorar as tendências que a engenharia de superfícies tem seguido, com foco especial dado às aplicações envolvendo GO incorporado a substratos diversos e àquelas que dizem respeito ao uso de biomateriais. Puderam ser destacadas algumas aplicações do GO na engenharia de superfícies: filtragem de água, materiais responsivos a estímulos mecânicos, hídricos, luminosos e elétricos, conversão e armazenamento de energia e melhoria na resistência à corrosão. Por fim, foi provada a viabilidade do uso de GO na forma de nanopartículas por meio da deposição por sputtering, de acordo com a literatura.  

Palavras-chave: Magnetron-sputtering, Filmes Finos, Óxido de Grafeno